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PVD镀膜设备
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PVD镀膜设备是一种物理沉积现象。即在真空状态下注入氩气,氩气桩基靶材,靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。


产品说明
技术参数
样品图片
产品说明

PVD镀膜设备是一种物理沉积现象。即在真空状态下注入氩气,氩气桩基靶材,靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。

PVD镀膜设备常见的有多弧离子镀膜设备,直流磁控溅射镀膜设备,中频磁控溅射镀膜设备等.

类型设备是一种高效、无污染的离子镀膜设备,具有沉积速度快、离化率高、离子能量大、设备操作简单、成本低、生产量大的优点。

   PVD镀膜机是一种高效、无污染的离子镀膜设备,具有沉积速度快、离化率高、离子能量大、设备操作简单、成本低、生产量大的优点。

设备型号

DK-1000

DK-1150

DK-1200

DK-1600

真空室尺寸

1000×1200

1200×1400

1400×1600

1600×1800

1600×2200

制膜种类

金色氮化钛、黑色碳化钛、七彩氧化钛、耐磨膜、超硬膜、金刚石膜、金属装饰膜等

电源类型

直流电源、中频电源、电弧电源、灯丝电源、活化电源、脉冲偏压电源

靶类型

多弧靶,选配中频孪生柱靶或平面靶

真空室结构

立式前开门结构(双层水套式或水槽式冷却)、后置抽气系统

真空系统

机械泵+罗茨泵+扩散泵/分子泵+维持泵

加热系统

常温至350度可调可控(PID控温),不绣钢加热管加热

充气系统

质量流量控制仪(1-4路)

极限真空

6×10-4pa(空载、净室)

抽气时间

空载大气抽至5×10-3pa小于13分钟

保压率

1h≤0.6pa

工件旋转方式

上旋转或下旋转+公自转变频无级可控可调,0-20转/分

控制方式

手动+半自动/触摸屏+PLC

备注

真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做



技术参数

设备型号

DK-1000

DK-1150

DK-1200

DK-1600

真空室尺寸

1000×1200

1200×1400

1400×1600

1600×1800

1600×2200

制膜种类

金色氮化钛、黑色碳化钛、七彩氧化钛、耐磨膜、超硬膜、金刚石膜、金属装饰膜等

电源类型

直流电源、中频电源、电弧电源、灯丝电源、活化电源、脉冲偏压电源

靶类型

多弧靶,选配中频孪生柱靶或平面靶

真空室结构

立式前开门结构(双层水套式或水槽式冷却)、后置抽气系统

真空系统

机械泵+罗茨泵+扩散泵/分子泵+维持泵

加热系统

常温至350度可调可控(PID控温),不绣钢加热管加热

充气系统

质量流量控制仪(1-4路)

极限真空

6×10-4pa(空载、净室)

抽气时间

空载大气抽至5×10-3pa小于13分钟

保压率

1h≤0.6pa

工件旋转方式

上旋转或下旋转+公自转变频无级可控可调,0-20转/分

控制方式

手动+半自动/触摸屏+PLC

备注

真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做


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