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渐变膜镀膜设备
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该设备是渐变膜专用镀膜设备,该设备是用磁控溅射的原理在产品上面沉积一层渐变色的膜系,一改传统的光学镀膜的方式,具有膜层牢固,膜系稳定,大大提高生产效率等优点。

目前该设备主要应用于手机外壳,平板玻璃,柔性材料等领域。


产品说明
技术参数
样品图片
产品说明

该设备是渐变膜专用镀膜设备,该设备是用磁控溅射的原理在产品上面沉积一层渐变色的膜系,一改传统的光学镀膜的方式,具有膜层牢固,膜系稳定,大大提高生产效率等优点。

目前该设备主要应用于手机外壳,平板玻璃,柔性材料等领域。


技术参数

技术参数

真空室尺寸

1200×1500mm

1400×1600mm

1600×1800mm

1800×2200mm

2000×1950mm

制膜种类

半透明膜、金、银、红、蓝、绿、灰、黑、七彩等多种颜色的渐变膜系

电源类型

磁控溅射电源、离子源电源

真空室结构

立式双开门、立式单开门、抽气系统

真空系统

机械泵+罗茨泵+扩散泵/分子泵+维持泵(或选配:深冷系统)

极限真空

8×10-4 pa(空载、净室)

抽气时间

空载大气抽至5×10-2pa小于10分钟

工件旋转方式

6轴/8轴/9轴公自转/变频无级调速

控制方式

手动+半自动+全自动一体化/触摸屏+PLC

备注

真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做


样品图片
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