AG平台游戏大厅

13685864596
13646604499


蒸发,磁控复合型镀膜设备
ABUIABACGAAgqL2h3gUogLHRpAQwgAo4wAc

该设备将磁控溅射技术和真空蒸发技术结合在同一镀膜设备里,既利用磁控溅射阴极辉光放电将靶材原子溅出并部分离化沉积在基材上成膜,同时又可利用在真空中以电阻加热将金属镀料熔融并让其汽化再沉积在基材上成膜。


产品说明
技术参数
样品图片
产品说明

该设备将磁控溅射技术和真空蒸发技术结合在同一镀膜设备里,既利用磁控溅射阴极辉光放电将靶材原子溅出并部分离化沉积在基材上成膜,同时又可利用在真空中以电阻加热将金属镀料熔融并让其汽化再沉积在基材上成膜。

磁控溅射/真空蒸发复合型将磁控溅射技术和真空蒸发技术结合在同一里,既利用磁控溅射阴极辉光放电将靶材原子溅出并部分离化沉积在基材上成膜,同时又可利用在真空中以电阻加热将金属镀料熔融并让其汽化再沉积在基材上成膜。增加了设备的用途和灵活性。该设备应用于手机壳等塑料表面金属化,应用于不导电膜和电磁屏蔽膜沉积。

     该设备配置了等离子体处理装置,高效磁控溅射阴极和电阻蒸发装置等,设备沉积速率快,镀层附着力好,镀层细腻致密,表面光洁度高,且均匀性一致性良好;该机实现镀膜工艺全自动化控制,装载量大,工作可靠,合格率高,生产成本低,绿色环保。该设备主要广泛应用于电脑壳、手机壳、家用电器等行业,可镀制金属膜、合金膜、复合膜层、透明(半透明)膜、不导电膜、电磁屏蔽膜等。


技术参数

产品参数

真空室尺寸

Φ1400×1600

Φ1600×1800

功率

68KW

115KW

电源类型

磁控电源、电弧电源、脉冲偏压电源

溅射及电极结构

圆柱磁控靶、平面矩形靶、孪生靶、蒸发电极

真空室结构

立式双开门、立式单开门、卧式单开门、后置抽气系统

极限真空

10-4Pa

真空系统组成

扩散泵/分子泵+罗茨泵+机械泵+维持泵

抽气时间

大气至5.0×10-2Pa≤7min

工件运动方式

公自转/变频调速,转速2~20r/min

控制方式

手动/自动一体化式,触摸屏+PLC

备注

以上设备可按客户实际及特殊工艺要求设计订做


样品图片
上一页 1 下一页
电子游戏安全的大网站棋牌授权码去哪买